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GC特气柜（Gas Cabinet）和GR特气架（Gas Rack）的职能设计

特气柜Gas Cabinet是专为易燃易爆、侵蚀性、毒性等危险性气体供给而设计的供给系统，按类别可分为：全自动、半自动和手动操作
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全自动气柜通过选取PLC节造，触控屏为人机界面，通过设备装置的压力传感器、气动阀、过流量计等装置，实现设备安全有效的运行
。其内部PLC程式设计的安全联锁职能和高纯阀件的合理选择和布局，既满足了半导体工艺出产过程中对特殊气体陆续供给和高纯度的要求，同时也确保了工厂正常出产和员工人身安全
。下面由盖斯帕克为各人单一介绍一下GC特气柜（Gas Cabinet）和GR特气架（Gas Rack）的职能设计
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特气柜/架，VMB/VMP简介

GC—Gas Cabinet 气瓶柜(用于风险性气体) GR—Gas Rack 气瓶架(用于风险性气体)

VMB—Valve Manifold Box 阀门箱(用于风险性气体) VMP—Valve Manifold Panel 阀门盘(用于风险性气体) 特气柜和VMB重要用于易燃易爆侵蚀有毒等风险性气体，而气瓶架和VMP通常用于非风险性气体；重要区别在于，特气柜和VMB都要有一个表壳上有抽风管，当产生幼泄露等危险情况时可将此类气体排出去预防扩散产生更大危险
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Gas Cabinet / Gas Rack 特气柜/气瓶架/特气盘面 : 职能设计

可分为单冈炜(1process)/ 双冈炜( 2 Process ) / 三冈炜(2 Process + 1 N2) 气瓶柜内的冈炜数设计可分为三种：别离为单冈炜、双冈炜、三冈炜
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（1）单钢的设计通常使用于钻研机构或尝试室等
。工艺造程尚未有量产，气体使用量幼，现场

可随时协调；懈造恐，其利益节俭空间、成本低、但需透过日常之治理与协调以免中断工艺造程造成损失
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（2）双钢与三钢常用于量产工厂，工艺造程不允许；榭，当一支冈炜使用完后，另一支备

用冈炜（stand by）会自动转为供气，此两种大局最大的差距是在purge管路的纯化氮气是以冈炜或厂务端供给，当purge用的PN2统一由厂务端来供给时，所有特殊气体供给系统不论是否相容，全数衔接到统一个供给源，会有较高的风险值；万一中央供给系统的PN2中断，警报系统又败坏，恰巧两种不相容的气体同时使用purge，此时极有可能产生爆炸的事务产生，一样性质可使用统一瓶冈炜来purge增长的成本及空间极度有限，是一种极度好的应变方式
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（3）三冈禅柜成本不会差好多安全性会是最好的，只有空间允许应最优先选择
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